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绪论 1

第一章　纯金属的热发射 6

引言 6

1.1　纯金属热电子发射现象 6

1.2　纯金属的自由电子模型 8

1.3　自由电子的统计分布 10

1.4　自由电子的动量配分函数 15

1.5　金属的内电位、逸出功和接触电位差 16

1.6　李查孙公式 22

1.7　电子初速及电子流的能量密度 26

第二章　电场对于金属热发射的影响 28

引言 28

2.1　发射电流随着收集极电压的变化情形 28

2.2　柜斥场下的电流 30

2.3　加速场下的电流——肖特基效应 31

2.4　空间电荷限制区 36

2.5　二分之三次方定律 38

2.6　电子初速分布的影响 40

引言 46

3.1　李查孙直线法 46

第三章　逸出功的量测 46

3.2　“理想”二极管 48

3.3　从加速场外延求零场电流 51

3.4　脉冲法 53

3.5　低温量测法 54

3.6　量热法 56

3.7　接触电位差法 59

3.8　表面纯净度的重要性 61

3.9　一些金属的逸出功及纯金属阴极 62

引言 67

第四章　阴极温度的量测 67

4.1　物体在高温时的辐射 68

4.2　能量温度 70

4.3　亮度温度 71

4.4　颜色温度 72

4.5　光测高温计 73

4.6　光谱辐射系数的测定 75

4.7　温差电偶法 76

4.8　电阻法 77

4.9　谐波分量法 78

第五章　原子薄膜阴极 82

引言 82

5.1　复钍钨阴极热发射的物理现象 83

5.2　发射机理的探讨 84

5.3　蒸发与扩散的平衡 89

5.4　非正常肖特基效应 92

5.5　碳化复钍钨阴极 95

5.6　复钡钨 95

5.7　复铯钨及其他 96

第六章　氧化物阴极 97

引言 97

6.1　半导体及其一些性质 97

6.2　氧化物阴极的制备 105

6.3　氧化物阴极的模型 108

6.4　氧化物阴极的逸出功 112

6.5　涂层的电导率 115

6.6　涂层性质随着运用时间的变化 118

6.7　氧化物阴极的伏安特性 119

6.8　氧化物阴极的脉冲发射 121

6.9　中毒现象 123

第七章　储备式热发射阴极及其他 126

引言 126

7.1　氧化物阴极的缺点及其改进类型 126

7.2　氧化钍阴极 127

7.3　储备式阴极 128

7.4　空心阴极及其他 133

第八章　场致发射 135

引言 135

8.1　金属的场致发射 136

8.2　温度对于场致发射的影响 139

8.3　场致发射的实验方法与结果 141

8.4　场致发射显微镜及其他应用的展望 143

第九章　次级电子发射 147

引言 147

9.1　纯金属的次级发射 148

9.2　半导体、介质和复杂面的次级发射 152

9.3　有效次级电子发射体 155

9.4　非正常次级发射——英尔特效应 158

9.5　关于次级发射的理论 159

9.6　次级发射的实验方法 163

第十章　光电发射 169

引言 169

10.1　金属光电发射的基本物理现象 170

10.2　关于光电现象光谱特性的理论 175

10.3　选择性光电效应及其解释 179

10.4　复杂的光电阴极 182

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