第一章 固体中的离子射程 1
1.1 核阻止和电子阻止 1
1.2 射程和离散 10
1.3 注入离子的侧向分布 18
1.4 双层靶中离子的浓度分布 23
第二章 沟道效应 27
2.1 沟道现象和实验 27
2.2 沟道理论 31
2.3 晶体内离子射程分布的实验测量 38
2.4 辐射增强扩散 47
第三章 辐射损伤 50
3.1 定性描述 50
3.2 离子注入产生的辐射损伤 56
3.3 缺陷的移动和退火 76
第四章 离子注入装置 78
4.1 概述 78
4.2 离子源 79
4.3 离子流的引出和加速 95
4.4 质量分析系统 97
4.5 离子束聚焦和扫描系统 98
4.6 靶室系统 102
4.7 真空系统 105
4.8 国内外离子注入机类型 109
第五章 元素半导体中的离子注入 114
5.1 离子注入Si、Ge中的分布 114
5.2 注入层的性能和退火 123
5.3 晶格损伤 132
5.4 注入离子的位置 140
第六章 化合物半导体中的离子注入 147
6.1 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体中的离子注入 148
6.2 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体中的离子注入 168
6.3 其它化合物半导体中的离子注入 170
6.4 退火及保护膜 177
6.5 双注入 185
第七章 离子注入参数的测量 188
7.1 离子微探针法 188
7.2 中子活化分析法 190
7.3 核反应分析 191
7.4 离子感生X射线 194
7.5 Rutherford背散射 196
7.6 沟道效应 200
7.7 电子自旋共振法 203
7.8 Raman散射 207
7.9 反射和透射电子衍射 213
7.10 光学反射率法 214
7.11 椭圆偏振光法 217
7.12 场离子显微镜 219
第八章 应用 221
8.1 离子注入在半导体中的应用 221
8.2 金属中的离子注入 253
8.3 磁性材料中的离子注入 256
8.4 绝缘材料中的离子注入 258
8.5 离子注入在超导材料中的应用 260
附录 266
参考文献 308
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- 《离子注入技术》张光华,钟士谦同编著 1982
- 《离子注入原理与技术》北京市辐射中心,北京师范大学低能核物理研究所离子注入研究室编著编著 1982
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- 《离子注入讲义 离子注入工艺部分 中》北京师范大学物理系 1977
- 《离子注入讲义 离子注入工艺部分 上》北京师范大学物理系 1977
- 《离子注入机基础》北京市辐射中心编 1981
- 《离子注入物理》罗晋生主编 1980
- 《离子注入物理》罗晋生主编 1984
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- 《小学 综合素质》赵爽,武世龙,经柏龙主编;孔繁成,马焕灵,徐大林副主编;赵爽,马焕灵,赵士谦,徐大林,张兆龙,于春来等编 2015
- 《养鱼必读》朱思华,周裕和,张光华编著 2006
- 《酸雨》张光华等编著 1989
- 《精细化学品配方技术》张光华编著 1999
- 《西服裁剪技法 增订本》钟士编著 1980
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- 《机械工业出版社》慕拉维叶夫著;孔庆复译 1959
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