大规模集成电路专用设备研讨暨学术交流会论文选 下PDF格式文档图书下载
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- 出版年份:1984
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- 标注页数:63 页
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图书介绍
综述 1
国外集成电路专用设备的发展 1
光学曝光的潜力与前景 6
光刻设备 10
分步重复投影光刻物镜设计 10
微细光刻照明系统汞灯“弧闪”的初步研究 16
光刻机光学系统的质量要求和象质检验 22
投影光刻机自动调焦调平技术 25
光刻设备的使用以及新设备的调机和工艺试验 31
测试仪器 36
掩模缺陷检测光学方法 36
自动掩模检查系统中微细缺陷探测的光学问题 40
双频激光测量系统在LSI光刻工艺设备中的应用 45
采用负载观测器的定位控制系统 51
其它 54
静电在集成电路生产中的危害及消除 54
文摘 57
来信照登 59
附:JK—1型接近式光刻机院级鉴定意见等 60
建议书 63
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