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第一章 绪论 1

1. 本书的范围 1

2. 材料电子显微术基础 3

2.1 波长与分辨能力 3

2.2 衍射 11

2.3 样品对分辨能力的限制 14

3. 透射电子显微镜 16

3.1 透射电子显微镜的部件 16

3.2 透射电子显微镜的操作功能 24

4. 透射电子显微镜的实际操作 26

4.1 选区衍射 26

4.2 磁转角标定及反转 29

4.3 放大倍率标定 32

4.4 相机常数 34

4.5 样品污染 34

4.6 暗场技术 35

4.7 研究晶格缺陷的高分辨技术 38

4.8 晶格成象 42

4.9 会聚束衍射 48

4.10 立体镜技术 50

5. 扫描透射电子显微镜(STEM) 53

5.1 电子扫描系统的基本特点 53

5.2 扫描透射电镜中的成象 55

5.3 扫描透射电镜中的微衍射 56

5.4 扫描透射电镜微区成分分析 59

6. 光学衍射与电子显微术 63

8. 参考书目 69

7. 样品制备 69

习题 72

参考文献 74

第二章 电子衍射几何学 76

1. 布拉格定律与倒易点阵 76

1.1 几何学 76

1.2 结构因数 78

2. 衍射花样指数化 81

2.1 衍射指数的确定 81

2.2 反射球的曲率 84

3.1 晶体形状因数 85

3. 倒易阵点的形状及衍射斑点的产生 85

3.2 入射束的发散或会聚 91

3.3 初级消光 91

4. 由衍射斑花样获得的信息 92

4.1 二次衍射 93

4.2 水纹图 95

4.3 含有层错的晶体 95

4.4 孪晶花样 100

4.5 边带--调幅结构 107

4.6 混合花样--相的鉴别 110

4.7 有序化晶体的衍射花样 111

4.8 表面污染效应 115

4.9 衍射环花样 116

5. 由菊池花样获得的信息 118

5.1 菊池花样形成的几何学 118

5.2 菊池花样与衍射斑花样的关系及偏差参量的测定 122

5.3 晶体位向的精密测定 124

5.4 菊池图 126

5.5 菊池花样的一些应用 131

习题 140

参考文献 145

第三章 村度分析及其应用导论 147

振幅村度成象 149

1. 引言 149

2. 运动学的近似--完整晶体 149

3. 不完整晶体的衬度 150

3.1 概述 150

3.2 衬度分析要求的信息(双光束条件) 151

4. 晶格缺陷的可见性--一般判据 153

5. 柏氏矢量分析 158

5.1 全位错 163

5.2 不全位错 163

6. g,b的大小 166

7. 图象位置 167

7.1 位错对 168

7.2 位错环 169

8. 面缺陷 172

8.1 堆垛层错 172

8.2 位向层错 180

8.3 有序合金中的反相畴界 181

8.4 对映系中的反演界面 184

8.5 其它效应 185

9. 小体积缺陷--沉淀物 185

10. 高压下的多光束效应及衬度 192

10.1 位错衬度 192

10.2 堆垛层错衬度 196

11. 磁性材料显微术 202

11.1 洛伦茨显微术及其应用 202

相位衬度成象 208

11.2 结构效应 208

12. 晶格成象与结构成象 209

12.1 晶格成象实例 209

12.2 结构成象实例 221

13. 晶格成象的成分分析 227

13.1 引言 227

13.2 应用 228

13.3 适用范围 234

习题 236

参考文献 238

1. 引言 242

第四章 衍衬理论 242

2. 简化的通用理论 243

2.1 背反射的忽略 243

2.2 相格近似 244

2.3 运动学近似 245

2.4 双光束动力学近似 249

2.5 柱体近似 251

3. 完整晶体的双光束分析解 252

4.1 光束及布洛赫波 260

4. 衍衬理论的发展 260

4.2 色散面 262

4.3 布洛赫波及吸收 264

4.4 双光束公式向多光束的扩展 266

5. 束洛赫波公式的发展 267

5.1 双光束近似(无吸收) 268

5.2 多光束解(无吸收) 270

5.3 包括吸收在内的情况 271

5.4 多光束色散面 272

6. 非中心对称晶体 274

7. 其它公式 276

习题 277

参考文献 278

第五章 动力学理论在象衬度计算中的应用 279

1. 引言 279

2. 散射矩阵 279

2.1 波束的散射：完整晶体 279

2.2 波束的散射：平面层错 280

2.3 波束的散射：一般应变场 284

2.4 布洛赫波的散射：完整晶体及平面层错 284

2.5 布洛赫波的散射：一般应变场 286

3.1 平面缺陷：α条纹及δ条纹 287

3. 典型缺陷的解(双光束) 287

3.2 位错 299

3.3 小缺陷 303

4. 图象的显示 305

5. 典型情况(n光束)的解 308

5.1 完整晶体 308

5.2 平面层错 313

5.3 一般应变场 315

6. 临界电压，V0 319

7. 影响缺陷分辨能力的因素 324

7.1 弱束技术 326

7.2 高次明场技术 331

7.3 临界电压下的图象 332

7.4 几种方法的比较 332

8. 通用的对称法则 333

9. 多光束成象 336

9.1 透镜象差的影响：衬度传递函数 337

9.2 Moiré条纹(水纹图) 342

9.3 晶格平面象 343

9.4 晶体结构投影 344

9.5 高压下的多光束象 345

10. 扫描透射电子显微术 345

习题 346

参考文献 348

附录A 由块状样品制备透射电镜薄膜的方法 350

附录B 四轴坐标的六方晶系倒易点阵 359

附录C 相对的倒易点阵间距 367

习题解答 369

英中名词对照 405

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