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第四机械工业部仪器处编辑1978 年出版292 页ISBN：
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中山大学数学力学系，中山大学计算机软件教研室编1978 年出版105 页ISBN：
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FRANCIS SCHEID原著；侯培南译著1978 年出版315 页ISBN：
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《半导体器件可靠性》编写组编1978 年出版372 页ISBN：15034·1635
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上海师范大学中教组物理教研组编1978 年出版350 页ISBN：7150·1912
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（美）西利（J.H.Seely），（美）褚（R.C.Chu）著；余川译1978 年出版275 页ISBN：15034·1603
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铁道部科学研究院通信信号研究所编著1978 年出版362 页ISBN：15043·4035
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《云南电子技术》编辑组编1978 年出版65 页ISBN：
近些年来，氧化铁选择性透明光刻掩模由于优良的膜特，已越来越快地用于国外集成电路和其它半导体器件制备工艺。
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中国医学科学院主编1978 年出版162 页ISBN：13031·712
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张天乐，王宗良著1978 年出版182 页ISBN：15038·新342
