图书介绍：本书采用集成电路剖面结构技术，全面地介绍 MOS 集成电路结构和典型集成电路制造技术。内容包括 PMOS（E/E型﹑E/D型），NMOS （E/E型﹑E/D型），CMOS （P-Well﹑N-Well﹑Twin-Well）， LV/HV 兼容 CMOS， BiCMOS， LV/HV 兼容 BiCMOS以及 LV/HV 兼容BCD。书中描绘出组成各种集成电路各种元器件工艺剖面结构，从而建立了元器件工艺剖面结构高达120 余种基本单元库。根据基本单元库描绘出高达 360 余种电路芯片工艺剖面结构。根据电路芯片工艺剖面结构和制造技术，介绍了40余种典型集成电路制造技术，并描绘出工艺制程中各个工序的平面结构和工艺剖面结构。这是国内外有关集成电路书籍中很难见到的。